上海自动减薄机设备 厂家直销 坂口电子机械供应

立式减薄机采用高精密丝杆及导轨组件，驱动方式是伺服驱动，可根据不同材质的工件及工艺要求由PLC控制的驱动模式而相应的改变丝杆的转速，也就是砂轮的进刀速度，速度0.001-5mm/min可调，控制进给精度由高分辨率光柵尺检测。采用先进的中国闽台品牌PLC和触摸屏，自动化程度高，实现人机对话，上海自动减薄机设备，操作简单一目了然。设备可检测磨削扭力、自动调节工件磨削速度，从而防止工件磨削过程中因压力过大产生变形及破损，自动补偿砂轮磨损厚度尺寸，上海自动减薄机设备，可使直径150晶片厚度减薄到0，上海自动减薄机设备.08mm厚而不会破碎。在我们使用减薄机之前我们要提前半小时磨料配比及搅拌工作。上海自动减薄机设备

通常在集成电路封装前，需要对晶片背面多余的基体材料去除一定的厚度。这一工艺过程称之为晶片背面减薄工艺，对应装备就是晶片减薄机。作用：1.通过减薄/研磨的方式对晶片衬底进行减薄，改善芯片散热效果。2.减薄到一定厚度有利于后期封装工艺。常规工艺:减薄/抛光到80-100um；粗糙度: 5-20nm；平整度: ±3um。将 10 吋铁环放置于贴片机移载台上，再将晶圆放置于晶圆吸附座上，启动铁环吸附和晶圆吸附，夹住胶膜并滚压移载台移动至切割位，切割刀下降于铁环上，旋转刀具，完成后上升，移载台移出至放置区前。贴合完成后由操作者将工作物取下。上海自动减薄机设备半自动双轴减薄机两个砂轮轴，*更换砂轮即可完成粗磨+精磨加工；

晶圆制造工艺中，对晶片的尺寸精度、几何精度、表面洁净度以及表面微晶格结构提出比较高要求，因此在几百道工艺流程中，不可采用较薄的晶片，只能采用一定厚度的晶片在工艺过程中传递、流片，通常在集成电路封装前，需要对晶片背面多余的基体材料去除一定厚度。这一工艺过程称之为晶片背面减薄工艺，对应装备就是晶片减薄机，在减薄过程中，晶圆由于表面中间和边缘的厚度不一致，在去除其中间厚度的时候会因为其强度不同，导致破裂，吸盘无法吸附，直接掉落工作台，变得碎裂，清理麻烦。

随着半导体技术的快速发展，半导体设备也在一代接一代的创新和发展，当今半导体设备的制造和使用涉及50多个学科和60多种化学元素等诸多方面的高技术，具有较强的技术综合性。如：硅、锗晶片(半导体器件)，铌、钽酸锂晶片(声表面波器件)，兰宝石(LED元件)、电子陶瓷(各种传感器)等脆性材料。脆性材料的应用越来越较广，尤其是在**应用领域和前端技术应用领域发挥着不可代替的作用，半导体硅等材料作为集成电路制造的重要基体材料这时候的减薄机就需要发挥他的作用。可根据蓝宝石减薄机不同的工艺要求由PLC控制系统支持的驱动模式而相应改变转速。蓝宝石减薄机具有非常高精密的加工能力及双面平行度控制能力。

硅片减薄机技术的原理：当前主流晶圆减薄机的整体技术采用了磨削原理设计。为了实现晶圆的延性域磨削，提高减薄质量，通过减小砂轮轴向进给速度实现微小磨削深度,因此，要求设备的进给运动分辨率小于0.1Ixm,进给速度1ixrn/min。另外，为了提高减薄工艺的效率,进给系统在满足低速进给的前提下，要尽可能实现高速返回。国内外减薄机现状：国外硅片**精密磨床制造起步较早，发展迅速，技术先进其中美国,德国，日本等发达国家生产的硅片**精密磨床技术成熟,表示着减薄机较高水平。目前国外生产的减薄机具有高精度,高集成化,自动化,加工硅片大尺寸化,**薄化等特点。横向减薄机平行度与平面度可控制在±0.002mm范围内。半自动双轴减薄机配置自动厚度测量和补偿系统，产品粗磨后移动至精磨位置，自动研削至目标值。两个砂轮轴，*更换砂轮即可完成粗磨+精磨加工；全自动减薄机是配有全自动上、下片系统的高精度研削设备，采用晶圆机械手取片，带有自动对中、清洗、干燥功能，可实现盒到盒、干进干出的全自动研削加工。减薄机采用真空吸盘，硅片等脆性材料要求减薄厚度在微米之间。上海自动减薄机设备

横向减薄机可使工件加工厚度减薄到0.02mm厚而不会破碎。上海自动减薄机设备

液晶玻璃减薄机操作台的右端设有电动推杆，电动推杆活塞杆的端部与连接板的右侧面固定连接。利用电动推杆推动连接板，从而推动首先滑块**部的夹具，对夹具上夹装的液晶玻璃进行工位的转移，转移至左侧立板的底部，对液晶玻璃进行刻蚀液的刻蚀，转移至右侧立板的底部，对液晶玻璃进行刻蚀后的清洗。支杆设有四个，且四个支杆均与直角梯形支座斜面相垂直。夹具包括固定设于支杆上的回字形框以及设于回字形框四个边角内侧的通过弹簧连接的直角夹板。利用直角夹板对液晶玻璃的四个角进行夹紧。立板**部固定气缸的活塞杆的端部与*二滑块的**部固定连接。利用气缸推动*二滑块下移，使得喷嘴以及导流板移至液晶玻璃右侧**部，对液晶玻璃进行刻蚀以及清洗工艺处理。减薄机减薄时如果研磨或者抛光的过程中有明显的细微划痕，我们就要清洗陶瓷盘/环。上海自动减薄机设备